“low pressure chemical vapour deposition”的概念、定义、翻译、参考文献-科学参考

单词	low pressure chemical vapour deposition
释义	low pressure chemical vapour deposition Encyclopedia 工学化学气相沉积释 low pressure chemical vapour deposition低压化学气相沉积反应室的工作压强低于0.1兆帕的化学气相沉积技术。简称LPCVD。
随便看	等离子体色谱图等离子体表面处理仪等离子体解吸等离[子]体诊断等离子体诊断等离子体诊断学等离子体超透镜成像等离子体辅助催化燃烧等离子体辅助加热等离[子]体辐射等离子体辐射等离子体辐射源等离[子]体输运等离子体输运等离子体输运系数等离子体金属防腐蚀等离子体镜等离子体降噪等离子体除挥发性有机化合物等离子体隐身等离子体非线性动力学等离[子]体鞘等离子体鞘等离子体鞘层等离[子]体频率

科学参考收录了854744条科技类词条，基本涵盖了常见科技类参考文献及英语词汇的翻译，是科学学习和研究的有利工具。